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Low temperature TiO2 deposition by ICP-CVD and the increased hydrophilic property by surface roughness control : 유도 결합 플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 저온 고속 TiO2 박막 증착 및 박막의 표면 거칠기 제어를 통한 초친수 특성 향상
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- Authors
- Advisor
- 이정중
- Issue Date
- 2008
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- titanium oxide(TiO2) ; titanium oxide(TiO2) ; 저온 증착 ; low temperature ; 유도 결합 플라즈마 ; inductively coupled plasma(ICP) ; 화학적 기상 증착법 ; PECVD ; 표면 조도 ; hydrogen ; 수소 효과 ; surface roughness
- Description
- Thesis(doctors) --서울대학교 대학원 :재료공학부,2008.8.
- Language
- English
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000041529
https://hdl.handle.net/10371/13520
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