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유기 금속 화학 증창법을 이용한 Hf 기반 게이트 금속전극용 박막의 성장 및 특성향상에 관한 연구 : Study of film growth and characteristics enhancement of Hf-based gate matal electrode deposited by metal organic chemical vapor deposition
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- Authors
- Advisor
- 김미영
- Issue Date
- 2007
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- Hf기반 게이트 ; HfN ; 금속전극 ; metal gate ; 유기금속화학 증착법 ; MOCVD
- Description
- 학위논문(석사) --서울대학교 대학원 :재료공학부,2007.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000043720
https://hdl.handle.net/10371/14883
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