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Improved imprint lithography for nanofabrication : 나노 구조물 제조를 위한 임프린트 리소그래피 공정의 개선
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- Authors
- Advisor
- 이홍희
- Issue Date
- 2006
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 균일성 ; Uniformity ; 변형 경화 ; Strain-hardening ; 탄성 복원 ; Elastic recovery ; 패턴 결함 ; Pattern failure ; 파단 ; Fracture ; 신장 ; Elongation ; 소성 영역 ; Yielded zone ; 100 나노미터 이하 패턴 ; Sub-100 nm pattern ; 콘트라스트-변형 임프린트 리소그래피 ; Contrast-modified room-temperature imprint lithography ; 감광제 ; Photoresist ; 전반사 ; Total internal reflection ; 빛 강도 차이 ; Intensity contrast
- Description
- Thesis(doctor`s)--서울대학교 대학원 :응용화학부,2006.
- Language
- English
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