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RF Magnetron Sputtering 법으로 증착한 Al-doped ZnO 투명 전극 박막 : Transparent conductive Al-doped ZnO thin films deposited by RF Magnetron Sputtering

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dc.contributor.advisor유상임-
dc.contributor.author박민준-
dc.date.accessioned2017-07-14T03:04:21Z-
dc.date.available2017-07-14T03:04:21Z-
dc.date.issued2012-08-
dc.identifier.other000000004299-
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/123235-
dc.description학위논문 (석사)-- 서울대학교 대학원 : 재료공학부, 2012. 8. 유상임.-
dc.description.abstract투명 전도성 산화물(transparent conductive oxide)은 태양전지, 디스플레이, 광학 소자 등 다양한 분야에서 전극용 재료로서 사용되고 있다. 현재 투명전극 물질로서 가장 많이 사용되고 있는 재료는 전기적, 광학적으로 우수한 특성을 보이는 ITO(Sn-doped indium oxide)이지만 고가인 인듐의 양을 줄이거나 완전히 대체할 수 있는 물질의 연구개발 필요성이 크게 대두되고 있다. 이러한 목적으로 본 연구에서는 AZO(Al-doped ZnO)에 대하여 박막제조 공정 및 박막의 배향성 제어를 통해 전기적 특성을 최적화함으로서 ITO 대체 가능성을 규명하고자 하였다.
본 실험에서는 먼저 소결온도 1500℃, 1650℃에서 1, 2, 3 wt%의 Al2O3가 도핑된 ZnO 타겟을 제조하였고, 이 타겟들을 사용하여 RF magnetron sputtering법으로 α-sapphire(0001), MgO(100), 그리고 fused silica glass 기판 위에 AZO 박막을 성장시켰다. 기판과 타겟 사이의 거리(DTS) 10 cm에서, 기판온도(200∼600℃)와 아르곤 분압(1, 3, 5 mTorr)을 조절함으로서 박막의 전기적 특성을 최적화하였고, 그 후 5 cm의 DTS에서 스퍼터링 파워(40∼220 W), 기판온도(300∼450℃) 및 아르곤 분압(1, 3, 5 mTorr)을 조절함으로서 공정조건을 최적화 하고자 하였다. 여러 공정 변수를 변화시켜가며 증착된 박막의 구조적, 전기적, 광학적 특성을 다양한 분석 방법을 통하여 살펴보았다.
본 실험결과, 모든 타겟은 96%이상의 높은 소결 밀도를 가졌고, 도핑 농도가 증가할수록 비저항이 낮아지는 결과를 보였다. XRD 분석을 통해서 소결 온도가 높을수록 이차상인 AlZn2O4 spinel상의 양이 줄어드는 것을 확인할 수 있었다. θ-2θ 분석과 pole-figure를 통한 박막의 구조 분석을 통해서 sapphire, MgO, 유리 기판 위에 박막이 각각 biaxial texture, mixed biaxial texture, 그리고 fiber texture의 배향성을 갖고 성장한 것을 확인할 수 있었고, 이러한 박막의 구조적 차이에 의해 AZO 박막이 다른 전기적 특성을 보이는 것을 확인하였다. 10 cm의 DTS와 200 W의 스퍼터링 파워에서 sapphire 단결정 기판 위에 증착된 AZO 박
막은 기판온도가 증가함에 따라 전하이동도는 계속해서 증가하였지만 전하밀도가 450℃부터 감소하여 450℃에서 가장 낮은 비저항을 보였다. MgO 단결정 위에서 증착된 박막은 전하밀도와 전하이동도가 모두 기판온도가 증가함에 따라서 증가하다가 감소하는 경향을 보이면서 425℃에서 가장 낮은 비저항을 나타내었고, glass 기판 위에 증착된 박막도 유사한 경향성을 보이며 375℃에서 가장 좋은 비저항을 나타내었다. 모든 기판 위에서 1 mTorr의 아르곤 분압에서 가장 좋은 비저항 값을 나타내었고 sapphire, MgO, glass기판 위에서 각각 5.18x10-4Ω-cm, 7.31x10-4Ω-cm, 4.36x10-4Ω-cm의 비저항을 나타내었다. 5 cm의 DTS에서 증착된 박막은 sapphire, MgO 위에 증착된 박막은 200W-375℃, glass 기판 위에서 증착된 박막은 80W-325℃에서 최적의 전기적 특성을 나타내었고, 모든 기판 위에서 1 mTorr의 아르곤 분압에서 각각 3.35x10-4Ω-cm, 3.57x10-4Ω-cm, 4.22x10-4Ω-cm의 낮은 비저항을 나타내었다. 모든 기판 위에서 1650℃에서 소결된 1wt% 도핑된 AZO 타겟을 사용하였을 때 가장 우수한 전기적 특성(∼10-4Ω-cm)과 광학적 특성(투광도∼85%)을 얻을 수 있었다.
결론적으로 AZO 박막 제조 공정의 최적화와 박막의 배향성을 제어함으로서 기존의 ITO 박막에 버금가는 우수한 전기 전도성을 얻을 수 있었다. 이를 통해서 산업용 유리 기판 위에 epitaxy MgO나 sapphire 층을 올린 후 AZO 박막을 제조할 수 있는 기술이 발전된다면 현재 사용되고 있는 값비싼 ITO를 충분히 대체할 수 있을 것으로 사료된다.
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dc.description.tableofcontents1. 서론 1

2. 문헌연구 5
2.1 ZnO의 특성 5
2.1.1 ZnO의 구조적 특성 5
2.2.2 ZnO의 전기적 특성 5
2.2.3. ZnO의 광학적 특성 6
2.2 Sputtering 방법 7

3. 실험 방법 11
3.1 AZO 타겟 제조 및 박막 증착 11
3.1.1 타겟 제조 11
3.1.2 Sputter법을 이용한 박막의 증착 11
3.2 AZO 벌크 시편 및 박막의 특성 분석 12
3.2.1 소결 밀도 측정 12
3.2.2 4-point-probe를 통한 벌크 시편의 전기적 특성 13
3.2.3 X-ray diffraction 13
3.2.4 UV Spectroscopy 14
3.2.5 Hall measurement 14
3.2.6 미세 조직 관찰 16

4. 실험 결과 및 고찰 19
4.1 고상 소결법에 의한 AZO 타겟 제조 및 벌크 특성 19
4.2 Sputter 공정변수가 AZO 박막의 특성에 미치는 영향 23


4.2.1 Sputtering power에 따른 AZO 박막의 특성 변화 24
4.2.2 기판온도에 따른 AZO 박막의 특성 변화 33
4.2.3 아르곤 분압에 따른 AZO 박막의 특성 변화 40
4.2.4 도핑농도에 따른 AZO 박막의 특성 변화 48
4.2.5 AZO 박막의 in-plane texture 53

5. 결론 57

참고문헌 60
Abstract 66
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dc.formatapplication/pdf-
dc.format.extent51641508 bytes-
dc.format.mediumapplication/pdf-
dc.language.isoko-
dc.publisher서울대학교 대학원-
dc.subjectTCO+ZnO+AZO+Sputter-
dc.titleRF Magnetron Sputtering 법으로 증착한 Al-doped ZnO 투명 전극 박막-
dc.title.alternativeTransparent conductive Al-doped ZnO thin films deposited by RF Magnetron Sputtering-
dc.typeThesis-
dc.description.degreeMaster-
dc.citation.pagesiv, 70-
dc.contributor.affiliation공과대학 재료공학부-
dc.date.awarded2012-08-
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