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고밀도 CHF3 플라즈마에서 바이어스 전압과 이온의 입사각이 photoresist의 식각에 미치는 영향
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 문상흡 | - |
| dc.contributor.author | 강세구 | - |
| dc.date.accessioned | 2009-11-18T07:44:49Z | - |
| dc.date.available | 2009-11-18T07:44:49Z | - |
| dc.date.copyright | 2006. | - |
| dc.date.issued | 2006 | - |
| dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000047847 | kor |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/13375 | - |
| dc.description | 학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :화학생물공학부,2006. | kor |
| dc.format.extent | v, 65 장 | kor |
| dc.language.iso | ko | - |
| dc.publisher | 서울대학교 대학원 | kor |
| dc.subject | 플라즈마 식각 | kor |
| dc.subject | plasma etching | kor |
| dc.subject | 파라데이 상자 | kor |
| dc.subject | Faraday cage | kor |
| dc.subject | photoresist | kor |
| dc.subject | photoresist | kor |
| dc.subject | 이온 입사 각도 | kor |
| dc.subject | ion-incident angle | kor |
| dc.subject | 바이어스 전압 | kor |
| dc.subject | bias voltage | kor |
| dc.subject | 식각 선택도 | kor |
| dc.subject | etch selectivity | kor |
| dc.title | 고밀도 CHF3 플라즈마에서 바이어스 전압과 이온의 입사각이 photoresist의 식각에 미치는 영향 | kor |
| dc.type | Thesis | - |
| dc.contributor.department | 화학생물공학부 | - |
| dc.description.degree | Master | kor |
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