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구리 열 증착 공정 중 발생하는 전류의 극성 변화와 근원 : Polarity transition and origin of current generated during thermal evaporation of Cu
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.advisor | 황농문 | - |
dc.contributor.author | 신봉규 | - |
dc.date.accessioned | 2009-11-24T02:59:49Z | - |
dc.date.available | 2009-11-24T02:59:49Z | - |
dc.date.copyright | 2005. | - |
dc.date.issued | 2005 | - |
dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000051055 | kor |
dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/14289 | - |
dc.description | 학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :재료공학부,2005. | kor |
dc.format.extent | 50 장 | kor |
dc.language.iso | ko | - |
dc.publisher | 서울대학교 대학원 | kor |
dc.subject | 열 필라멘트 화학 기상 증착법 | kor |
dc.subject | Hot-wire chemical vapor deposition | kor |
dc.subject | 전류 | kor |
dc.subject | Current | kor |
dc.subject | 전하를 띤 클러스터 이론 | kor |
dc.subject | Theory of charged clusters | kor |
dc.subject | 구리 | kor |
dc.subject | Cu | kor |
dc.subject | 열 증착 | kor |
dc.subject | Thermal evaporation | kor |
dc.subject | 이온화율 | kor |
dc.subject | Ionization efficiency | kor |
dc.subject | 표면 이온화 | kor |
dc.subject | Surface ionization | kor |
dc.subject | 산화막 | kor |
dc.subject | Tungsten oxide | kor |
dc.subject | 열전자 | kor |
dc.subject | Thermionic emission | kor |
dc.subject | 클러스터 | kor |
dc.subject | Cluster | kor |
dc.title | 구리 열 증착 공정 중 발생하는 전류의 극성 변화와 근원 | kor |
dc.title.alternative | Polarity transition and origin of current generated during thermal evaporation of Cu | kor |
dc.type | Thesis | - |
dc.contributor.department | 재료공학부 | - |
dc.description.degree | Master | kor |
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