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ALD로 증착한 HfO₂ stack의 성장거동과 전기적 특성에 대한 연구
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 황철성 | - |
| dc.contributor.author | 조문주 | - |
| dc.date.accessioned | 2009-11-24T23:12:31Z | - |
| dc.date.available | 2009-11-24T23:12:31Z | - |
| dc.date.copyright | 2003. | - |
| dc.date.issued | 2003 | - |
| dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000058285 | kor |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/14665 | - |
| dc.description | 학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :재료공학부,2003. | kor |
| dc.format.extent | 149 p. | kor |
| dc.language.iso | ko | - |
| dc.publisher | 서울대학교 대학원 | kor |
| dc.subject | HfO2 | kor |
| dc.subject | Gate oxide | kor |
| dc.subject | ALD | kor |
| dc.subject | HRTEM | kor |
| dc.subject | XRD | kor |
| dc.title | ALD로 증착한 HfO₂ stack의 성장거동과 전기적 특성에 대한 연구 | kor |
| dc.type | Thesis | - |
| dc.contributor.department | 재료공학부 | - |
| dc.description.degree | Master | kor |
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