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불화탄소 플라즈마에서 벽면으로부터 반사된 이온과 바닥면으로부터 발생된 라디칼이 SiO₂의 식각 특성에 미치는 영향 : Effects of ions reflected from the sidewall and radicals emitted from the bottom on the etch characteristics of SiO₂in a fluorocarbon plasma
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- Authors
- Advisor
- 문상흡
- Issue Date
- 2004
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 불화탄소 플라즈마 ; fluorocarbon plasma ; 식각 ; etching ; 증착 ; deposition ; 이차 식각 ; secondary etching ; 불화탄소 고분자 ; fluorocarbon polymer ; 각도 의존성 ; angular dependence ; 바이어스 전압 ; bias voltage ; 라디칼 ; radical ; 파라데이 상자 ; Faraday cage ; 질량분석기 ; mass spectrometer
- Description
- 학위논문(박사)--서울대학교 대학원 :응용화학부,2004.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000056142
https://hdl.handle.net/10371/44926
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