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Simulated Annealing을 이용한 0.16㎛급 위상 변이 마스크(phase shift mask)최적화에 관한 연구

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dc.contributor.advisor이성묵-
dc.contributor.author김유석-
dc.date.accessioned2010-02-04T06:12:34Z-
dc.date.available2010-02-04T06:12:34Z-
dc.date.copyright1998.-
dc.date.issued1998-
dc.identifier.urihttp://library.snu.ac.kr/search/DetailView.ax?sid=1&cid=0000757616kog
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/49812-
dc.description학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :과학교육과 물리전공,1998.ko
dc.format.extent41 장ko
dc.language.isokoko
dc.publisher서울대학교 대학원ko
dc.titleSimulated Annealing을 이용한 0.16㎛급 위상 변이 마스크(phase shift mask)최적화에 관한 연구ko
dc.typeThesis-
dc.contributor.department과학교육과 물리전공-
dc.description.degreeMasterko
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College of Education (사범대학)Dept. of Science Education (과학교육과)Physics (물리전공)Theses (Master's Degree_물리전공)
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