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실리콘 단결정에서 산화적층결함 형성에 미치는 냉각 속도의 영향에 관한 연구

DC Field Value Language
dc.contributor.advisor윤종규-
dc.contributor.author하태석-
dc.date.accessioned2010-02-08T07:39:25Z-
dc.date.available2010-02-08T07:39:25Z-
dc.date.copyright1996.-
dc.date.issued1996-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000080831kog
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/51976-
dc.description학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :금속공학과,1996.ko
dc.format.extentv, 47 장ko
dc.language.isokoko
dc.publisher서울대학교 대학원ko
dc.title실리콘 단결정에서 산화적층결함 형성에 미치는 냉각 속도의 영향에 관한 연구ko
dc.typeThesis-
dc.contributor.department금속공학과-
dc.description.degreeMasterko
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College of Engineering/Engineering Practice School (공과대학/대학원)Dept. of Materials Science and Engineering (재료공학부)Theses (Master's Degree_재료공학부)
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