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양자역학 전산모사를 이용한 일산화질소의 금속촉매 분해 반응에 대한 전자구조 분석 : Electronic Structure analysis of NO dissociation over transition metal surface using ab-initio calculation

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Authors

윤정훈

Advisor
조맹효
Major
기계항공공학부(멀티스케일 기계설계전공)
Issue Date
2012-02
Publisher
서울대학교 대학원
Description
학위논문 (석사)-- 서울대학교 대학원 : 기계항공공학부(멀티스케일 기계설계전공), 2012. 2. 조맹효.
Abstract
본 연구에서는 DFT 계산법을 이용하여 전이금속 표면에서 일산화질소의 촉매분해 반응에 대한 전자 구조 분석을 시행하였다. 본 연구에서는 로듐, 구리, 팔라듐의 (1 0 0) 표면 위에서 분석된 DOS 형상을 비교하였고, 그 결과 본 연구는 일산화질소의 촉매분해반응의 활성화 에너지가 d-band의 중심뿐만 아니라 인접한 금속 표면 원자 d-band의 낮은 에너지 준위의 경계에 영향을 받는다는 결론을 낼 수 있었다.
We studied electronic structure of NO dissociation on transition metal surfaces by using DFT calculation. By comparing both DOS plot in the adsorbed state and transition state of NO dissociation in Rh, Cu Pd (1 0 0) surfaces, we found that activation energy of NO dissociation in different material is mainly affected by two factors: center of d-band, and lower edge of the d-band in co-adsorb site PDOS.
Language
kor
URI
https://hdl.handle.net/10371/154763

http://dcollection.snu.ac.kr/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000000259
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