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Characterization of the Plasma Electrode Biasing Effects at Transformer Coupled Plasma H- Ion Source : 평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 수소 음이온원에서의 플라즈마 전극 바이어스 효과에 대한 연구
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 황용석 | - |
| dc.contributor.author | 안영화 | - |
| dc.date.accessioned | 2010-01-25T07:40:09Z | - |
| dc.date.available | 2010-01-25T07:40:09Z | - |
| dc.date.copyright | 2009. | - |
| dc.date.issued | 2009 | - |
| dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000037196 | eng |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/43598 | - |
| dc.description | Thesis(masters) --서울대학교 대학원 :에너지시스템공학부, 2009.2. | en |
| dc.format.extent | viii, 71 leaves | en |
| dc.language.iso | en | en |
| dc.publisher | 서울대학교 대학원 | en |
| dc.subject | 음이온원 | en |
| dc.subject | Negative Ion | en |
| dc.subject | 고주파 플라즈마 | en |
| dc.subject | Plasma Electrode | en |
| dc.subject | 고주파 이온원 | en |
| dc.subject | Volume Production | en |
| dc.subject | 바이어스 효과 | en |
| dc.subject | Surface Production | en |
| dc.subject | 플라즈마 전극 | en |
| dc.subject | Optimal Bias | en |
| dc.subject | 최적 바이어스 전압 | en |
| dc.subject | Probe Diagnostics | en |
| dc.subject | 체적 생성법 | en |
| dc.subject | RF plasma | en |
| dc.subject | 표면 생성법 | en |
| dc.subject | RF ion source | en |
| dc.subject | 탐침 진단 | en |
| dc.title | Characterization of the Plasma Electrode Biasing Effects at Transformer Coupled Plasma H- Ion Source | en |
| dc.title.alternative | 평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 수소 음이온원에서의 플라즈마 전극 바이어스 효과에 대한 연구 | en |
| dc.type | Thesis | - |
| dc.contributor.department | 에너지시스템공학부 | - |
| dc.description.degree | Master | en |
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