Improved imprint lithography for nanofabrication

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Improved imprint lithography for nanofabrication : 나노 구조물 제조를 위한 임프린트 리소그래피 공정의 개선

DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	이홍희	-
dc.contributor.author	홍필순	-
dc.date.accessioned	2010-01-27	-
dc.date.available	2010-01-27	-
dc.date.copyright	2006.	-
dc.date.issued	2006	-
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10371/45320	-
dc.description	Thesis(doctor`s)--서울대학교 대학원 :응용화학부,2006.	en
dc.format.extent	xiii, 98 leaves	en
dc.language.iso	en	en
dc.publisher	서울대학교 대학원	en
dc.subject	균일성	en
dc.subject	Uniformity	en
dc.subject	변형 경화	en
dc.subject	Strain-hardening	en
dc.subject	탄성 복원	en
dc.subject	Elastic recovery	en
dc.subject	패턴 결함	en
dc.subject	Pattern failure	en
dc.subject	파단	en
dc.subject	Fracture	en
dc.subject	신장	en
dc.subject	Elongation	en
dc.subject	소성 영역	en
dc.subject	Yielded zone	en
dc.subject	100 나노미터 이하 패턴	en
dc.subject	Sub-100 nm pattern	en
dc.subject	콘트라스트-변형 임프린트 리소그래피	en
dc.subject	Contrast-modified room-temperature imprint lithography	en
dc.subject	감광제	en
dc.subject	Photoresist	en
dc.subject	전반사	en
dc.subject	Total internal reflection	en
dc.subject	빛 강도 차이	en
dc.subject	Intensity contrast	en
dc.title	Improved imprint lithography for nanofabrication	en
dc.title.alternative	나노 구조물 제조를 위한 임프린트 리소그래피 공정의 개선	en
dc.type	Thesis	-
dc.contributor.department	응용화학부	-
dc.description.degree	Doctor	en

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