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PECVD법에 의해 제조된 TiN 박막의 증착 특성 및 내부 응력 : Deposition characteristics and internal stresses of PECVD-TiN thin films
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- Authors
- Advisor
- 이후철
- Issue Date
- 1997
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 잔류 염소량 ; PECVD ; 음극 암부 포텐셜 ; TiN ; 우선 방위 천이 현상 ; hot electrode ; 임계 두께 ; cold electrode ; 표면 에너지 ; residual chlorine content
- Description
- 학위논문(박사)--서울대학교 대학원 :금속공학과,1997.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000079630
https://hdl.handle.net/10371/50852
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