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초고진공 전자공명 화학기상증착법에 의한 Si과 Si₁- xGeⅹ의 in situ 도핑에 관한 연구

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dc.contributor.advisor윤의준-
dc.contributor.author박진원-
dc.date.accessioned2010-02-08T07:44:04Z-
dc.date.available2010-02-08T07:44:04Z-
dc.date.copyright1996.-
dc.date.issued1996-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000081002kog
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/52072-
dc.description학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :무기재료공학과,1996.ko
dc.format.extentvii, 54 장ko
dc.language.isokoko
dc.publisher서울대학교 대학원ko
dc.title초고진공 전자공명 화학기상증착법에 의한 Si과 Si₁- xGeⅹ의 in situ 도핑에 관한 연구ko
dc.typeThesis-
dc.contributor.department무기재료공학과-
dc.description.degreeMasterko
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