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Sidewall 극미세 다중 패턴 형성 기술을 이용한 double-gate SOI finFETs의 제작 및 특성 연구
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 이종덕 | - |
| dc.contributor.author | 박주희 | - |
| dc.date.accessioned | 2010-02-09T14:54:10Z | - |
| dc.date.available | 2010-02-09T14:54:10Z | - |
| dc.date.copyright | 2006. | - |
| dc.date.issued | 2006 | - |
| dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000047763 | kog |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/53483 | - |
| dc.description | 학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :전기공학부,2006. | ko |
| dc.format.extent | ii, 44 장 | ko |
| dc.language.iso | ko | ko |
| dc.publisher | 서울대학교 대학원 | ko |
| dc.subject | sidewall patterning 기술 | ko |
| dc.subject | sidewall patterning technique | ko |
| dc.subject | 극미세 다중 패턴 | ko |
| dc.subject | very fine multi-line | ko |
| dc.subject | double-gate | ko |
| dc.subject | double-gate | ko |
| dc.subject | SOI | ko |
| dc.subject | SOI | ko |
| dc.subject | FinFET | ko |
| dc.subject | FinFET | ko |
| dc.title | Sidewall 극미세 다중 패턴 형성 기술을 이용한 double-gate SOI finFETs의 제작 및 특성 연구 | ko |
| dc.type | Thesis | - |
| dc.contributor.department | 전기공학부 | - |
| dc.description.degree | Master | ko |
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