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Issue Date	Title / Author(s) / Citation	File	Altmetrics
2001	유도결합 플라즈마 스퍼터링법을 이용한 Ti계 질화물의 제조 및 특성에 관한 연구 박흥식	link
2017-02	The characteristics of high etch rate ion beam etcher with magnetized inductively coupled plasma source Kim, J. W.; Cheong, H. W.; Hong, Y. T.; Whang, K. W. Plasma Sources Science and Technology, Vol.26 No.3, p. 035008	view file DOI