Atomic layer deposition of high-k HfO2 using Hf(O-iPr)4 and Hf(NMe2)4 as Hf precursors

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Atomic layer deposition of high-k HfO2 using Hf(O-iPr)4 and Hf(NMe2)4 as Hf precursors : Hf(O-iPr)4 와 Hf(NMe2)4를 Hf 전구체로 사용한 고유전 HfO2의 원자층증착

DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	문상흡	-
dc.contributor.author	김정찬	-
dc.date.accessioned	2009-11-18T04:57:52Z	-
dc.date.available	2009-11-18T04:57:52Z	-
dc.date.copyright	2009.	-
dc.date.issued	2009	-
dc.identifier.uri	http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000038228	eng
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10371/12992	-
dc.description	Thesis(doctors) --서울대학교 대학원 :화학생물공학부,2009.8.	eng
dc.format.extent	xi, 89 leaves	eng
dc.language.iso	en	-
dc.publisher	서울대학교 대학원	eng
dc.subject	하프늄 산화물	eng
dc.subject	hafnium oxide	eng
dc.subject	원자층 증착	eng
dc.subject	atomic layer deposition	eng
dc.subject	유전물질	eng
dc.subject	dielectric	eng
dc.subject	게이트 산화물	eng
dc.subject	gate oxide	eng
dc.subject	이소프로폭사이드	eng
dc.subject	isopropoxide	eng
dc.subject	디메틸아민	eng
dc.subject	dimethylamine	eng
dc.title	Atomic layer deposition of high-k HfO2 using Hf(O-iPr)4 and Hf(NMe2)4 as Hf precursors	eng
dc.title.alternative	Hf(O-iPr)4 와 Hf(NMe2)4를 Hf 전구체로 사용한 고유전 HfO2의 원자층증착	eng
dc.type	Thesis	-
dc.contributor.department	화학생물공학부	-
dc.description.degree	Doctor	eng

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