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EUV absorber로 사용되는 TaN 막질의 식각특성 및 TaN 패턴 측벽각도가 EUVL에 미치는 영향
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- Authors
- Advisor
- 문상흡
- Issue Date
- 2008
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- EUVL ; EUVL ; 마스크 ; mask ; absorber ; absorber ; TaN ; TaN ; 플라즈마 ; Plasma ; 패러데이 상자 ; Faraday cage ; 전산모사 ; Simulation
- Description
- 학위논문(석사) --서울대학교 대학원 :화학생물공학부,2008.2.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000039721
https://hdl.handle.net/10371/13100
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