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Excimer laser crystallization of amorphous silicon film with artificially designed spatial intensity profile beam : 변조된 공간 강도 프로파일 빔을 이용한 비정질 실리콘의 엑시머 레이져 결정화

DC Field Value Language
dc.contributor.advisor김기범-
dc.contributor.author김억수-
dc.date.accessioned2009-11-18T22:15:32Z-
dc.date.available2009-11-18T22:15:32Z-
dc.date.copyright2009.-
dc.date.issued2009-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000035974eng
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/13507-
dc.descriptionThesis(doctors) --서울대학교 대학원 :재료공학부,2009.2.eng
dc.format.extentxvii, 131 p.eng
dc.language.isoeneng
dc.publisher서울대학교 대학원eng
dc.subject엑시머 레이져 결정화eng
dc.subjectexcimer laser crystallizationeng
dc.subject다결정 실리콘eng
dc.subjectpolycrystalline siliconeng
dc.subject공간 강도 프로파일eng
dc.subjectspatial intensity profileeng
dc.subject최대 강도eng
dc.subjectmaximum intensityeng
dc.subject최소 강도eng
dc.subjectminimum intensityeng
dc.subject용융 깊이eng
dc.subjectmelt deptheng
dc.subjectsuperlateral growtheng
dc.subjectsuperlateral growtheng
dc.titleExcimer laser crystallization of amorphous silicon film with artificially designed spatial intensity profile beameng
dc.title.alternative변조된 공간 강도 프로파일 빔을 이용한 비정질 실리콘의 엑시머 레이져 결정화eng
dc.typeThesis-
dc.contributor.department재료공학부-
dc.description.degreeDoctoreng
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