초점거리에 따른 Blur Edge Modeling을 이용한 Align 공정에서의 Overlay 측정의 정확도 개선

Abstract

본 논문에서는 초점거리에 따른 Edge Modeling을 이용하여 Overlay 측정의 정확도를 개선 할 수 있는 방법에 대한 연구를 하였다. OLED 증착 시 정확한 증착을 위해 Mask와 Glass의 Align 과정이 필요하다. 이때 Mask와 Glass의 접촉은 OLED의 성능 감소와 불량을 초래한다. 이러한 문제를 방지하기 위해 Mask와 Glass사이에 간격을 주어 Align을 진행하는데, 이는 Mask Mark와 Glass Mark 간의 초점거리를 변화시켜 Blur 현상이 발생된다. Blur 현상은 이미지의 Overlay 측정을 방해하는데 이 때문에 정확한 Mark의 위치를 알 수 없게 된다. 때문에 이러한 문제를 해결하는 것이 중요하다. 본 논문에서는 이 문제를 해결하기 위해서 Blur 현상을 고려한 Overlay 측정 방법을 고안하였다. 측정에 사용되는 광학계의 특성을 고려하여 Point Spread Function(PSF)을 선정하였고 이를 통해 Edge Model을 선정하였다. 또한, Circle Confusion 현상을 이용하여 초점거리에 따른 Blur의 양을 정량화하고, 이를 Edge Model에 적용하였다. 이렇게 만들어진 Blur Edge Model을 이용하여 초점이 어긋난 이미지에서 Overlay 측정을 진행하였다. Blur Edge Model을 사용하기 위해 측정 시 사용된 광학계의 광학 성능을 이용하였으며, 이를 토대로 측정을 진행 하였기 때문에 Blur현상이 일어난 이미지에서도 측정이 가능하다. 제안한 측정 방법의 성능을 검증하기 위해 다양한 실험을 진행하였다. 그 결과 초점거리의 변화에 따른 Overlay 측정의 정확도가 개선되는 것을 확인하였다.