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열 필라멘트 법을 이용한 실리콘 화학 기상 증착 공정 중에 발생하는 전하를 띈 실리콘 나노입자 : Generation of Charged Silicon Nanoparticles during Hot Wire Chemical Vapor Deposition

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dc.contributor.advisor황농문-
dc.contributor.author고민성-
dc.date.accessioned2009-11-25-
dc.date.available2009-11-25-
dc.date.copyright2007.-
dc.date.issued2007-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000043696kor
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/14844-
dc.description학위논문(석사) --서울대학교 대학원 :재료공학부,2007.kor
dc.format.extent70 장kor
dc.language.isoko-
dc.publisher서울대학교 대학원kor
dc.subject다결정 실리콘kor
dc.subjectPolycrystalline siliconkor
dc.subject전하를 띈 클러스터 이론kor
dc.subjectThe theory of charged clusterskor
dc.subjectHot wire CVDkor
dc.subjectHot wire CVDkor
dc.subject실리콘 나노입자kor
dc.subjectSilicon nanopartilcekor
dc.subject양의 전하를 띈 실리콘 나노입자kor
dc.subjectPositively charged silicon nanoparticlekor
dc.subject음의 전하를 띈 실리콘 나노입자kor
dc.subjectNegatively charged silicon nanoparticlekor
dc.subject중성의 실리콘 나노입자kor
dc.subjectneutral silicon nanopartilcekor
dc.title열 필라멘트 법을 이용한 실리콘 화학 기상 증착 공정 중에 발생하는 전하를 띈 실리콘 나노입자kor
dc.title.alternativeGeneration of Charged Silicon Nanoparticles during Hot Wire Chemical Vapor Depositionkor
dc.typeThesis-
dc.contributor.department재료공학부-
dc.description.degreeMasterkor
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