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Effects of the functional groups of complexing agent and Cu Oxide formation on the Cu CMP slurry performance : 착물 형성제의 작용기 및 구리 산화막 형성이 구리 화학적 기계적 연마 슬러리 거동에 미치는 영향

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dc.contributor.advisor김재정-
dc.contributor.author김영준-
dc.date.accessioned2019-07-10T04:54:57Z-
dc.date.available2019-07-10T04:54:57Z-
dc.date.issued2011-02-
dc.identifier.other000000029077-
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/159367-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000029077ko_KR
dc.description학위논문 (박사)-- 서울대학교 대학원 : 화학생물공학부, 2011.2. 김재정.-
dc.format.extentxv, 139장-
dc.language.isoeng-
dc.publisher서울대학교 대학원-
dc.subject구리 화학적 기계적 연마 공정-
dc.subject세리아 슬러리-
dc.subject작용기-
dc.subject착물 형성제-
dc.subject구리 산화막-
dc.subjectCu-
dc.subjectCMP-
dc.subjectceria slurry-
dc.subjectfunctional group-
dc.subjectcomplexing agent-
dc.subjectCu oxide-
dc.titleEffects of the functional groups of complexing agent and Cu Oxide formation on the Cu CMP slurry performance-
dc.title.alternative착물 형성제의 작용기 및 구리 산화막 형성이 구리 화학적 기계적 연마 슬러리 거동에 미치는 영향-
dc.typeThesis-
dc.typeDissertation-
dc.description.degreeDoctor-
dc.contributor.affiliation화학생물공학부-
dc.date.awarded2011-02-
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