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Cu 배선공정에서 Al 중간층을 이용한 CVD-TiN 확산방지막의 성능 향상에 관한 연구

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dc.contributor.advisor김기범-
dc.contributor.author김경호-
dc.date.accessioned2010-01-15T02:45:51Z-
dc.date.available2010-01-15T02:45:51Z-
dc.date.copyright2000.-
dc.date.issued2000-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000068298kor
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/30666-
dc.description학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :금속공학과,2000.ko
dc.format.extentix, 64 장ko
dc.language.isokoko
dc.publisher서울대학교 대학원ko
dc.titleCu 배선공정에서 Al 중간층을 이용한 CVD-TiN 확산방지막의 성능 향상에 관한 연구ko
dc.typeThesis-
dc.contributor.department금속공학과-
dc.description.degreeMasterko
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