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A study on the excimer laser annealing methods for large and uniform grain structure in polycrystalline silicon thin film transistor : 多結晶 실리콘 薄膜 트랜지스터의 그레인 크기 및 均一度를 向上시키기 위한 엑시머 레이저 어닐링 方法에 관한 硏究
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- Authors
- Advisor
- 한민구
- Issue Date
- 2001
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- polycrystalline silicon thin film transistor ; 다결정 실리콘 박막 트랜지스터 ; excimer laser annealing ; 엑시머 레이저 어닐링 ; grain structure ; 그레인 구조 ; field effect mobility ; 전계 효과 이동도 ; leakage current
- Description
- Thesis (doctoral)--서울대학교 대학원 :전기.컴퓨터공학부,2001.
- Language
- English
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000063413
https://hdl.handle.net/10371/30801
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