Real-time end-point and fault detection of plasma etching processes

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Real-time end-point and fault detection of plasma etching processes : 플라즈마 식각 공정에 대한 실시간 종말점 및 이상진단

DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	윤인섭	-
dc.contributor.author	한경훈	-
dc.date.accessioned	2010-01-27	-
dc.date.available	2010-01-27	-
dc.date.copyright	2008.	-
dc.date.issued	2008	-
dc.identifier.uri	http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000041580	eng
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10371/45279	-
dc.description	Thesis(doctors) --서울대학교 대학원 :응용화학부, 2008.8.	en
dc.format.extent	x, 125 p.	en
dc.language.iso	en	en
dc.publisher	서울대학교 대학원	en
dc.subject	다변량 통계적 모델링	en
dc.subject	Multivariate statistical modeling	en
dc.subject	(변형된, 다중) 주요인자 분석방법	en
dc.subject	(Modified, Multi-way) Principal component analysis	en
dc.subject	이상감지	en
dc.subject	Fault detection	en
dc.subject	플라즈마 식각	en
dc.subject	Plasma etching	en
dc.subject	종말점 검출	en
dc.subject	End-point detection	en
dc.subject	광학 방출 스펙트럼	en
dc.subject	Optical emission spectroscopy	en
dc.title	Real-time end-point and fault detection of plasma etching processes	en
dc.title.alternative	플라즈마 식각 공정에 대한 실시간 종말점 및 이상진단	en
dc.type	Thesis	-
dc.contributor.department	응용화학부	-
dc.description.degree	Doctor	en

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