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Etching of Si and SiO2 in fluorocarbon plasma : interaction between the sidewall and bottom surfaces, and methods of etch profile improvement : 불화탄소 플라즈마에서 실리콘 및 실리콘 산화막의 식각 : 벽면과 바닥면의 상호 간섭 및 식각형태의 향상 방법
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 문상흡 | - |
| dc.contributor.author | 민재호 | - |
| dc.date.accessioned | 2010-01-27 | - |
| dc.date.available | 2010-01-27 | - |
| dc.date.copyright | 2006. | - |
| dc.date.issued | 2006 | - |
| dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000046538 | eng |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/45337 | - |
| dc.description | Thesis(doctoral)--서울대학교 대학원 :응용화학부,2006.문상흡. | en |
| dc.format.extent | xv, 180 p. | en |
| dc.language.iso | en | en |
| dc.publisher | 서울대학교 대학원 | en |
| dc.subject | 플라즈마 식각 | en |
| dc.subject | plasma etching | en |
| dc.subject | 패러데이 상자 | en |
| dc.subject | Faraday cage | en |
| dc.subject | 바닥 발생 입자 | en |
| dc.subject | bottom-emitted particle | en |
| dc.subject | 재증착 | en |
| dc.subject | redeposition | en |
| dc.subject | 이온 반사 | en |
| dc.subject | ion reflection | en |
| dc.subject | 마이크로트렌치 | en |
| dc.subject | microtrenching | en |
| dc.subject | 벽면물결 | en |
| dc.subject | sidewall ripple | en |
| dc.title | Etching of Si and SiO2 in fluorocarbon plasma : interaction between the sidewall and bottom surfaces, and methods of etch profile improvement | en |
| dc.title.alternative | 불화탄소 플라즈마에서 실리콘 및 실리콘 산화막의 식각 : 벽면과 바닥면의 상호 간섭 및 식각형태의 향상 방법 | en |
| dc.type | Thesis | - |
| dc.contributor.department | 응용화학부 | - |
| dc.description.degree | Doctor | en |
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