Nanoscale SONOS nonvolatile memory devices based on sidewall patterning technique

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Nanoscale SONOS nonvolatile memory devices based on sidewall patterning technique : 측벽 패터닝 기법을 이용한 나노스케일 SONOS 비휘발성 메모리 제작 및 특성에 관한 연구

DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	박병국	-
dc.contributor.author	성석강	-
dc.date.accessioned	2010-01-27T23:12:56Z	-
dc.date.available	2010-01-27T23:12:56Z	-
dc.date.copyright	2004.	-
dc.date.issued	2004	-
dc.identifier.uri	http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000055064	eng
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10371/45824	-
dc.description	Thesis (doctoral)--서울대학교 대학원 :전기·컴퓨터공학부,2004.	en
dc.format.extent	iv, 124 p.	en
dc.language.iso	en	en
dc.publisher	서울대학교 대학원	en
dc.subject	SONOS	en
dc.subject	Sonos	en
dc.subject	측벽 패터닝	en
dc.subject	Sidewall patterning	en
dc.subject	식각 선택비	en
dc.subject	Etch selectivity	en
dc.subject	균일도	en
dc.subject	Uniformity	en
dc.subject	30 nm	en
dc.subject	30 nm	en
dc.subject	전하 보존	en
dc.subject	Retention	en
dc.subject	내구성	en
dc.subject	Endurance	en
dc.subject	채널 핫 전자 주입	en
dc.subject	Che injection	en
dc.subject	F-N 터널링	en
dc.subject	F-n tunneling	en
dc.subject	홀 주입	en
dc.subject	Hole injection	en
dc.subject	트랩 밀도	en
dc.subject	Trap density	en
dc.subject	silicon-rich	en
dc.subject	Silicon-rich	en
dc.title	Nanoscale SONOS nonvolatile memory devices based on sidewall patterning technique	en
dc.title.alternative	측벽 패터닝 기법을 이용한 나노스케일 SONOS 비휘발성 메모리 제작 및 특성에 관한 연구	en
dc.type	Thesis	-
dc.contributor.department	전기·컴퓨터공학부	-
dc.description.degree	Doctor	en

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