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(A)Study on the characterization methodology of silicon nitride using the charge decay model of SONOS flash memories : SONOS 메모리 소자의 전하 감소 모델을 이용한 실리콘 질화막 물성 분석 방법론에 관한 연구
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 박병국 | - |
| dc.contributor.author | 김태훈 | - |
| dc.date.accessioned | 2010-02-02T16:05:26Z | - |
| dc.date.available | 2010-02-02T16:05:26Z | - |
| dc.date.copyright | 2006. | - |
| dc.date.issued | 2006 | - |
| dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000046589 | eng |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/48860 | - |
| dc.description | Thesis(doctoral)--서울대학교 대학원 :전기·컴퓨터공학부,2006. | en |
| dc.format.extent | v, 92 p. | en |
| dc.language.iso | en | en |
| dc.publisher | 서울대학교 대학원 | en |
| dc.subject | CMOS VLSI 기술 | en |
| dc.subject | CMOS VLSI technology | en |
| dc.subject | 비휘발성 메모리 | en |
| dc.subject | nonvolatile memory | en |
| dc.subject | 플래시 메모리 | en |
| dc.subject | flash memory | en |
| dc.subject | SONOS | en |
| dc.subject | SONOS | en |
| dc.subject | FLOTOX | en |
| dc.subject | FLOTOX | en |
| dc.subject | 실리콘 질화막 | en |
| dc.subject | silicon nitride | en |
| dc.subject | 실리콘 리치 실리콘 질화막 | en |
| dc.subject | silicon rich silicon nitride | en |
| dc.subject | 트랩 밀도 분포 | en |
| dc.subject | trap density distribution | en |
| dc.title | (A)Study on the characterization methodology of silicon nitride using the charge decay model of SONOS flash memories | en |
| dc.title.alternative | SONOS 메모리 소자의 전하 감소 모델을 이용한 실리콘 질화막 물성 분석 방법론에 관한 연구 | en |
| dc.type | Thesis | - |
| dc.contributor.department | 전기·컴퓨터공학부 | - |
| dc.description.degree | Doctor | en |
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