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플라즈마 화학기상증착법에 의한 저유전율 SiOxFy 박막의 증착 및 물성의 안정화

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dc.contributor.advisor김형준-
dc.contributor.author김윤해-
dc.date.accessioned2010-02-08T07:41:39Z-
dc.date.available2010-02-08T07:41:39Z-
dc.date.copyright1998.-
dc.date.issued1998-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000075709kog
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/52022-
dc.description학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :무기재료공학과,1998.ko
dc.format.extentx, 81 장ko
dc.language.isokoko
dc.publisher서울대학교 대학원ko
dc.title플라즈마 화학기상증착법에 의한 저유전율 SiOxFy 박막의 증착 및 물성의 안정화ko
dc.typeThesis-
dc.contributor.department무기재료공학과-
dc.description.degreeMasterko
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