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Ti과 Ni 중간층이 TiN 박막의 내식성과 밀착성에 미치는 영향

DC Field Value Language
dc.contributor.advisor이정중-
dc.contributor.author하회성-
dc.date.accessioned2010-02-08T07:51:37Z-
dc.date.available2010-02-08T07:51:37Z-
dc.date.copyright1995.-
dc.date.issued1995-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000083195kog
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/52227-
dc.description학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :금속공학과 제련공학전공,1995.ko
dc.format.extentii, 48 장ko
dc.language.isokoko
dc.publisher서울대학교 대학원ko
dc.titleTi과 Ni 중간층이 TiN 박막의 내식성과 밀착성에 미치는 영향ko
dc.typeThesis-
dc.contributor.department금속공학과 제련공학전공-
dc.description.degreeMasterko
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College of Engineering/Engineering Practice School (공과대학/대학원)Dept. of Materials Science and Engineering (재료공학부)Theses (Master's Degree_재료공학부)
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