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Modeling of the segregation probability of Ge during Si GSMBE growth on Si₁[-x]Ge[x] alloys : 실리콘-게르마늄 기판 위에서 실리콘 GSMBE 성장시 게르마늄원자의 표면으로의 이동에 대한 모델링

DC Field Value Language
dc.contributor.advisor이홍희-
dc.contributor.author윤현식-
dc.date.accessioned2010-03-09T07:10:17Z-
dc.date.available2010-03-09T07:10:17Z-
dc.date.copyright1998.-
dc.date.issued1998-
dc.identifier.urihttp://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000075686eng
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10371/58954-
dc.descriptionThesis (master`s)--서울대학교 대학원 :화학공학과,1998.en
dc.format.extentiv, 23 p.en
dc.language.isoenen
dc.publisher서울대학교 대학원en
dc.titleModeling of the segregation probability of Ge during Si GSMBE growth on Si₁[-x]Ge[x] alloysen
dc.title.alternative실리콘-게르마늄 기판 위에서 실리콘 GSMBE 성장시 게르마늄원자의 표면으로의 이동에 대한 모델링-
dc.typeThesis-
dc.contributor.department화학공학과-
dc.description.degreeMasteren
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