Silicon thin-fin etching using chemical dry etching

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Silicon thin-fin etching using chemical dry etching : 화학적 건식 식각을 이용한 실리콘의 얇은 핀 식각

DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	박병국	-
dc.contributor.author	Rehman Ateeq-Ur	-
dc.date.accessioned	2010-05-10T04:05:54Z	-
dc.date.available	2010-05-10T04:05:54Z	-
dc.date.copyright	2010	-
dc.date.issued	2010	-
dc.identifier.uri	http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000033520	eng
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10371/64972	-
dc.description	Thesis(masters) --서울대학교 대학원 :전기. 컴퓨터공학부,2010.2.	en
dc.format.extent	viii, 35 leaves.	en
dc.language.iso	en	en
dc.publisher	서울대학교 대학원	en
dc.subject	플라즈마	en
dc.subject	Plasma	en
dc.subject	화학건식식각	en
dc.subject	Chemical dry etching	en
dc.subject	등방성 식각	en
dc.subject	Isotropic etching	en
dc.subject	선택비	en
dc.subject	selectivity	en
dc.subject	플래시 메모리	en
dc.subject	Flash memory	en
dc.title	Silicon thin-fin etching using chemical dry etching	en
dc.title.alternative	화학적 건식 식각을 이용한 실리콘의 얇은 핀 식각	en
dc.type	Thesis	-
dc.contributor.department	전기. 컴퓨터공학부	-
dc.description.degree	Master	en

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