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전자 공명 수소 플라즈마의 실리콘 초고집적 소자 제조 공정에의 응용 : Application of electron cyclotron resonance hydrogen plasma to silicon ultralarge scale integration (ULSI)
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 윤의준 | - |
| dc.contributor.author | 황기현 | - |
| dc.date.accessioned | 2010-02-05T06:40:17Z | - |
| dc.date.available | 2010-02-05T06:40:17Z | - |
| dc.date.copyright | 1997. | - |
| dc.date.issued | 1997 | - |
| dc.identifier.uri | http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000078959 | kog |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10371/50793 | - |
| dc.description | 학위논문(박사)--서울대학교 대학원 :무기재료공학과,1997. | ko |
| dc.format.extent | v, 165 장 | ko |
| dc.language.iso | ko | ko |
| dc.publisher | 서울대학교 대학원 | ko |
| dc.subject | hydrogen plasma cleaning of Si | ko |
| dc.subject | 수소 플라즈마 세정화 | ko |
| dc.subject | surface roughness | ko |
| dc.subject | 표면 거칠기 | ko |
| dc.subject | {111} platelet at subsurface | ko |
| dc.subject | 우선 식각 반응 | ko |
| dc.subject | preferential etching reaction | ko |
| dc.subject | 수소에 의해 촉진된 산소의 확산 | ko |
| dc.subject | {100} amorphous platelet | ko |
| dc.subject | 초고진공 전자 공명 플라즈마 화학 기상 증착법 | ko |
| dc.title | 전자 공명 수소 플라즈마의 실리콘 초고집적 소자 제조 공정에의 응용 | ko |
| dc.title.alternative | Application of electron cyclotron resonance hydrogen plasma to silicon ultralarge scale integration (ULSI) | ko |
| dc.type | Thesis | - |
| dc.contributor.department | 무기재료공학과 | - |
| dc.description.degree | Doctor | ko |
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