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전자 공명 수소 플라즈마의 실리콘 초고집적 소자 제조 공정에의 응용 : Application of electron cyclotron resonance hydrogen plasma to silicon ultralarge scale integration (ULSI)
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- Authors
- Advisor
- 윤의준
- Issue Date
- 1997
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- hydrogen plasma cleaning of Si ; 수소 플라즈마 세정화 ; surface roughness ; 표면 거칠기 ; {111} platelet at subsurface ; 우선 식각 반응 ; preferential etching reaction ; 수소에 의해 촉진된 산소의 확산 ; {100} amorphous platelet ; 초고진공 전자 공명 플라즈마 화학 기상 증착법
- Description
- 학위논문(박사)--서울대학교 대학원 :무기재료공학과,1997.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000078959
https://hdl.handle.net/10371/50793
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