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고밀도 CHF3 플라즈마에서 바이어스 전압과 이온의 입사각이 photoresist의 식각에 미치는 영향
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- Authors
- Advisor
- 문상흡
- Issue Date
- 2006
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 플라즈마 식각 ; plasma etching ; 파라데이 상자 ; Faraday cage ; photoresist ; photoresist ; 이온 입사 각도 ; ion-incident angle ; 바이어스 전압 ; bias voltage ; 식각 선택도 ; etch selectivity
- Description
- 학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :화학생물공학부,2006.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000047847
https://hdl.handle.net/10371/13375
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