Browse
S-Space
College of Engineering/Engineering Practice School (공과대학/대학원)
Dept. of Chemical and Biological Engineering (화학생물공학부)
Theses (Master's Degree_화학생물공학부)
고밀도 CHF3 플라즈마에서 바이어스 전압과 이온의 입사각이 photoresist의 식각에 미치는 영향
- Authors
- 강세구
- Advisor
- 문상흡
- Issue Date
- 2006
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 플라즈마 식각; plasma etching; 파라데이 상자; Faraday cage; photoresist; photoresist; 이온 입사 각도; ion-incident angle; 바이어스 전압; bias voltage; 식각 선택도; etch selectivity
- Description
- 학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :화학생물공학부,2006.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000047847
http://hdl.handle.net/10371/13375
- Files in This Item: There are no files associated with this item.
Items in S-Space are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.