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Excimer laser crystallization of amorphous silicon film with artificially designed spatial intensity profile beam : 변조된 공간 강도 프로파일 빔을 이용한 비정질 실리콘의 엑시머 레이져 결정화
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- Authors
- Advisor
- 김기범
- Issue Date
- 2009
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 엑시머 레이져 결정화 ; excimer laser crystallization ; 다결정 실리콘 ; polycrystalline silicon ; 공간 강도 프로파일 ; spatial intensity profile ; 최대 강도 ; maximum intensity ; 최소 강도 ; minimum intensity ; 용융 깊이 ; melt depth ; superlateral growth ; superlateral growth
- Description
- Thesis(doctors) --서울대학교 대학원 :재료공학부,2009.2.
- Language
- English
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000035974
https://hdl.handle.net/10371/13507
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