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구리 열 증착 공정 중 발생하는 전류의 극성 변화와 근원 : Polarity transition and origin of current generated during thermal evaporation of Cu
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- Authors
- Advisor
- 황농문
- Issue Date
- 2005
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 열 필라멘트 화학 기상 증착법 ; Hot-wire chemical vapor deposition ; 전류 ; Current ; 전하를 띤 클러스터 이론 ; Theory of charged clusters ; 구리 ; Cu ; 열 증착 ; Thermal evaporation ; 이온화율 ; Ionization efficiency ; 표면 이온화 ; Surface ionization ; 산화막 ; Tungsten oxide ; 열전자 ; Thermionic emission ; 클러스터 ; Cluster
- Description
- 학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :재료공학부,2005.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000051055
https://hdl.handle.net/10371/14289
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