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Effects of the functional groups of complexing agent and Cu Oxide formation on the Cu CMP slurry performance : 착물 형성제의 작용기 및 구리 산화막 형성이 구리 화학적 기계적 연마 슬러리 거동에 미치는 영향
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- Authors
- Advisor
- 김재정
- Major
- 화학생물공학부
- Issue Date
- 2011-02
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 구리 화학적 기계적 연마 공정 ; 세리아 슬러리 ; 작용기 ; 착물 형성제 ; 구리 산화막 ; Cu ; CMP ; ceria slurry ; functional group ; complexing agent ; Cu oxide
- Description
- 학위논문 (박사)-- 서울대학교 대학원 : 화학생물공학부, 2011.2. 김재정.
- Language
- eng
- URI
- https://hdl.handle.net/10371/159367
http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000029077
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