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다결정실리콘 박막트랜지스터의 특성향상을 위한 새로운 금속 유도 측면결정화 방법과 열처리 방법에 관한 연구 : 비대칭 오프셋 MILC, scan 급속 열처리 : A Study on the new metal-induced lateral crystallization and annealing method for the improvement of poly-Si TFT`s characteristics : asymmetric offset MILC, scan RTA
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- Authors
- Advisor
- 주승기
- Issue Date
- 2000
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 다결정 실리콘 ; poly-Si ; 박막 드랜지스터 ; thin film transistor ; 금속 유도 측면 결정화 ; metal-induced lateral crystallization ; 누설 전류 ; leakage current ; 전기적 스트레스 ; electrical stress
- Description
- 학위논문(박사)--서울대학교 대학원 :금속공학과,2000.
- Language
- Korean
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000068948
https://hdl.handle.net/10371/34578
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