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Etching of Si and SiO2 in fluorocarbon plasma : interaction between the sidewall and bottom surfaces, and methods of etch profile improvement : 불화탄소 플라즈마에서 실리콘 및 실리콘 산화막의 식각 : 벽면과 바닥면의 상호 간섭 및 식각형태의 향상 방법
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- Authors
- Advisor
- 문상흡
- Issue Date
- 2006
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 플라즈마 식각 ; plasma etching ; 패러데이 상자 ; Faraday cage ; 바닥 발생 입자 ; bottom-emitted particle ; 재증착 ; redeposition ; 이온 반사 ; ion reflection ; 마이크로트렌치 ; microtrenching ; 벽면물결 ; sidewall ripple
- Description
- Thesis(doctoral)--서울대학교 대학원 :응용화학부,2006.문상흡.
- Language
- English
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000046538
https://hdl.handle.net/10371/45337
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