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Nanoscale SONOS nonvolatile memory devices based on sidewall patterning technique : 측벽 패터닝 기법을 이용한 나노스케일 SONOS 비휘발성 메모리 제작 및 특성에 관한 연구
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- Authors
- Advisor
- 박병국
- Issue Date
- 2004
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- SONOS ; Sonos ; 측벽 패터닝 ; Sidewall patterning ; 식각 선택비 ; Etch selectivity ; 균일도 ; Uniformity ; 30 nm ; 30 nm ; 전하 보존 ; Retention ; 내구성 ; Endurance ; 채널 핫 전자 주입 ; Che injection ; F-N 터널링 ; F-n tunneling ; 홀 주입 ; Hole injection ; 트랩 밀도 ; Trap density ; silicon-rich ; Silicon-rich
- Description
- Thesis (doctoral)--서울대학교 대학원 :전기·컴퓨터공학부,2004.
- Language
- English
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000055064
https://hdl.handle.net/10371/45824
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