Publications
Detailed Information
(A)Study on the characterization methodology of silicon nitride using the charge decay model of SONOS flash memories : SONOS 메모리 소자의 전하 감소 모델을 이용한 실리콘 질화막 물성 분석 방법론에 관한 연구
Cited 0 time in
Web of Science
Cited 0 time in Scopus
- Authors
- Advisor
- 박병국
- Issue Date
- 2006
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- CMOS VLSI 기술 ; CMOS VLSI technology ; 비휘발성 메모리 ; nonvolatile memory ; 플래시 메모리 ; flash memory ; SONOS ; SONOS ; FLOTOX ; FLOTOX ; 실리콘 질화막 ; silicon nitride ; 실리콘 리치 실리콘 질화막 ; silicon rich silicon nitride ; 트랩 밀도 분포 ; trap density distribution
- Description
- Thesis(doctoral)--서울대학교 대학원 :전기·컴퓨터공학부,2006.
- Language
- English
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000046589
https://hdl.handle.net/10371/48860
- Files in This Item:
- There are no files associated with this item.
Item View & Download Count
Items in S-Space are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.