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(A)Study on multi-arrayable micro E-beam lighography system using MEMS technology : 멤즈기술을 이용한 다중배열 가능한 초소형 전자빔 노광장치에 관한 연구
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- Authors
- Advisor
- 전국진
- Issue Date
- 2005
- Publisher
- 서울대학교 대학원
- Keywords
- 전자빔 리소그래피 ; electron beam lithography ; 초소형전자총 ; microcolumn ; 집적형 초소형 전자총 ; monolithic microcolumn ; 몬테카를로 시뮬레이션 ; Monte-Carlo simulation ; 전자광학 시뮬레이션 ; electron optics simulation ; 전계방출원 ; field emission tip ; 냉전계방출원 ; cold field emission tip ; 입력 전자광학렌즈 ; source lens ; 양극접합 ; anodic bonding ; 구리 도금 ; Cu electroplating ; 이방성 건식식각 ; deep silicon etching ; 편향계 ; deflector ; 아인젤렌즈 ; einzel lens ; 단전위 렌즈 ; electrostatic field ; 정전장 렌즈 ; SPICE ; 스파이스 ; MEMS ; 마이크로머시닝 기술.
- Description
- Thesis(doctoral)--서울대학교 대학원 :전기컴퓨터공학부, 2005.
- Language
- English
- URI
- http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000050121
https://hdl.handle.net/10371/48897
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