열 필라멘트 화학기상증착을 통한 다결정 실리콘 박막의 증착에서 바이어스와 압력이 증착거동에 미치는 영향

임종성

열 필라멘트 화학기상증착을 통한 다결정 실리콘 박막의 증착에서 바이어스와 압력이 증착거동에 미치는 영향
Effect of electric bias and pressure on the deposition behavior of microcrystalline films by hot-wire chemical vapor deposition

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Authors: 임종성

Advisor: 황농문

Issue Date: 2010

Publisher: 서울대학교 대학원

Keywords: 다결정 실리콘 박막; Poly-Si; 하전된 나노 입자 이론; Theory of charged cluster; 열 필라멘트 화학 기상 증착; Hot wire chemical vapor deposition; 실리콘 나노 클러스터; Silicon nano particles

Description: 학위논문(석사) --서울대학교 대학원 :재료공학부,2010.2.

Language: Korean

URI: http://dcollection.snu.ac.kr:80/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000033309

http://hdl.handle.net/10371/64788

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Appears in Collections:: College of Engineering/Engineering Practice School (공과대학/대학원)Dept. of Material Science and Engineering (재료공학부) Theses (Master's Degree_재료공학부)

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