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Issue Date	Title / Author(s) / Citation	File
2000	Ion Beam Sputtering법을 이용한 (Ba[0.5],Sr[0.5])TiO[3]박막의 증착 및 특성 분석 조영진	link
2000	저온 유기금속 화학증착법으로 제조된 Pt 기판 위의 (Ba,Sr)TiO₃특성 분석 박재후	link
2001	수소를 포함한 환원성 분위기에서 열처리를 거친 SrBi[2]Ta[2]O[9] 박막의 열화 기구에 대한 고찰 권오성	link
2001	반응성 스퍼터링법을 이용한 (Ti,Al)N 확산방지막의 증착 및 특성분석 송재원	link
2001	액체수송 유기금속 화학증착법에 의한 Pb(Zr,Ti)O₃박막의 저온(400-500℃)증착 및 특성분석 김혜령	link
2002	질소를 첨가한 분위기에서 RF 마그네트론 스퍼터링법에 의해 증착된 (Ba0.5,Sr0.5)TiO₃박막의 전기적 특성 분석 김지훈	link
2002	CVD 방법으로 증착한 HfO₂박막의 성장 기구와 전기적 성질에 관한 고찰 박병건	link
2002	FRAM 소자를 위한 Pb(ZrxTi₁-x)O₃박막의 저온 LDS-MOCVD 증착 및 특성에 관한 연구 정시화	link
2003	고집적 FRAM 소자 제작을 위한 하부 Pt 전극의 분석 및 Pb(Zr,Ti)O₃박막의 특성 연구 임지은	link
2003	ALD로 증착한 HfO₂ stack의 성장거동과 전기적 특성에 대한 연구 조문주	link
2004	ALD HfO₂게이트 유전막의 특성 향상에 대한 연구 박홍배	link
2004	스퍼터링 방법으로 증착한 (Ba,Sr)TiO₃박막의 전기적 성질에 미치는 잔류응력과 박막두께 효과에 대한 연구 박우영	link
2005	Electrical conduction mechanisms in HfO2 films grown by atomic layer deposition 정두석	link
2005	ALD(Atomic Layer Deposition) 증착법을 이용한 Bi2(Ti2-xSix)O7-y 유전박막의 증착 거동 및 물성 평가에 관한 연구 김완돈	link
2005	Fabrication and characterizations of self-aligned poly-Si gate transistors using HfO₂thin films 박재후	link
2005	유기금속 화학기상 증착법으로 Si기판에 형성한 Hf-기반 게이트 유전막의 성장 및 특성향상에 관한 연구 이석우	link
2006	단원자층 증착법(ALD)을 이용한 PbTiO3 박막의 증착과 특성평가 황규원	link
2006	Atomic layer deposition and characterization of SrTiO3 thin films 권오성	link
2006	(The)Growth characteristics of (Ba,Sr)Tio3 thin films grown near 460℃ using a dome-type MOCVD reactor 전충배	link
2006	Metal organic chemical vapor deposition of Pb(Zr,Ti)O3 on ir bottom electrode and effects of electrodes on electrical properties 조금석	link
2006	유기 금속 화학 증착법을 이용한 Hf 기반 유전박막 증착과 특성향상 및 계면과 막내 질소 함유 영향에 관한 연구 홍석훈	link
2006	SrRuO₃전극의 결정성에 따른 MOCVD Pb(Zr,Ti)O₃박막의 증착 및 특성에 관한 연구 심준섭	link
2006	단원자 증착법(ALD)으로 증착한 HfO₂박막의 구조적 전기적 특성 연구 서민하	link
2007	Ir 기판 표면 처리에 따른 MOCVD Pb(Zr,Ti)O₃박막의 증착 및 특성에 관한 연구 이근	link
2007	Deposition behavior and dielectric properties of the Ti-based oxide films for memory devices 김성근	link
2007	Growth and characterization of single-walled carbon nanotubes for molecular electronic applications 민요셉	link
2007	Study on atomic layer deposited high-k HfO₂ film and reliability problem based on chlorine carbon residue 조문주	link
2008	단원자 증착법(ALD)으로 증착한 Ru 박막을 이용한 박막형 다층 세라믹 캐패시터(MLCC)의 제조 및 특성 연구 이상영	link
2008	Microscopic investigation of resistive switching in TiO₂thin film using conductive atomic force microscopy 신용철	link
2008	New materials in advanced gate stacks for next generation complementary metal oxide semiconductor field effect transistors(CMOSFETs) technology 박태주	link
2008	Fabrication of oxide thin film transistors and their characterization for optoelectronic devices 송재원	link
2008	A detailed model for the unipolar and bipolar resistive switching in TiO₂thin films 김경민	link
2009	Influence of strain and size effect on the properties of ferroelectric (Ba,Sr)TiO₃ thin films 박우영	link
2009	제일 원리 방법에 의한 Ge 공공 형성에 미치는 이축 변형의 크기 및 방향 효과 연구 나광덕	link
2009	DRAM에 응용되는 이산화티타늄을 기반으로 한 산화박막의 증착거동 및 유전특성 개선에 관한 연구 최규진	link
2009	Growth and characterization of high-k SrTiO₃thin films grown by atomic layer deposition 이상운	link
2009	Deposition behavior and phase change characteristics of Ge2Sb2Te5 thin films for phase change memory application 최병준	link
2010	유기 금속 화합 증착법을 이용한 Zinc tin oxide(ZTO) 산화물 반도체의 성장 및 특성평가와 이를 적용한 박막 트랜지스터의 동작 특성 연구 오힘찬	link
2011-02	(The) effect of light illumination on the electrical properties of amorphous In-Ga-Zn-O and Hf-In-Zn-O thin film transistors 김정환	link
2011-02	Growth behavior and phase change characteristics of Ge doped Sb-Te thin films for phase change memory application 최설	link
2011-02	Polarization switching behavior in the dielectric/ferroelectric bi-layer capacitors 이현주	link
2011-08	Growth behavior and characteristics of Ru based electrodes grown by CVD/ALD for next generation DRAM device 한정환	link
2011-08	DRAM capacitor 전기적 특성 개선을 위한 적층 구조 전극 연구 한소라	link
2012-02	Light induced phenomena in amorphous oxide semiconductor thin film transistors 정윤장	link
2012-02	계면층이 삽입된 강유전체 박막 커패시터의 분극 반전 거동 분석 김유진	link
2012-02	Bias Temperature Instability Characteristics for Hf-based Gate Dielectrics on Si and Ge substrates 정형석	link
2012-02	First-principles study on atomic and electronic structures of the phase change materials Ge2Sb2Te5 조은애	link
2012-08	1D1R (1diode and 1resistor) crossbar type device using TiO2 thin film for next generation non-volatile resistive switching random access memory application 김건환	view file
2013-02	Structures and properties of various phases of zinc tin oxide by ab-initio calculations 이주휘	view file
2013-08	제일 원리 방법에 의한 SrRuO3의 이축 변형에 따른 구조적, 전기적 특성 연구 정윤수	view file
2014-02	Novel material and device for ferroelectric memory: thin Hf1-xZrxO2 film and tri-states memory 박민혁	view file
2014-02	Atomic layer deposition characteristics of (GeTe2)(1-x)(Sb2Te3)x pseudo-binary thin films for phase change memory application 엄태용	view file
2014-02	Ge-Sb-Te 박막의 저항 변화 현상에 관한 연구 유시정	view file
2014-02	ALD로 증착한 Al doped HfO2와 Al doped ZrO2 박막의 Mo 전극 상에서 구조적, 전기적 특성 유연우	view file
2014-05	Multifunctional wearable devices for diagnosis and therapy of movement disorders Son, Donghee; Lee, Jongha; Qiao, Shutao; Ghaffari, Roozbeh; Kim, Jaemin; Lee, Ji Eun; Song, Changyeong; Kim, Seok Joo; Lee, Dong Jun; Jun, Samuel Woojoo; Yang, Shixuan; Park, Minjoon; Shin, Jiho; Do, Kyungsik; Lee, Mincheol; Kang, Kwanghun; Hwang, Cheol Seong; Lu, Nanshu; Hyeon, Taeghwan; Kim, Dae-Hyeong Nature Nanotechnology, Vol.9 No.5, pp.397-404	DOI
2014-08	Overcoming the Non-ideal Behavior of Atomic Layer Deposition of SrTiO3 Thin Films for DRAM Capacitor 이웅규	view file
2014-08	Characterization of atomic layer deposited HfO2 and TiO2 high-k dielectrics on Si and Ge substrates 이상영	view file
2014-08	Real time analysis of switching dynamic behavior in transition metal oxide thin films for resistive switching memory applications 송슬지	view file
2014-08	ALD로 증착한 zinc tin oxide (ZTO) 박막의 특성에 미치는 증착 온도의 영향 및 이를 적용한 박막 트랜지스터의 동작 특성 연구 김준식	view file
2015-02	Study on the characteristics of Zn-based oxide semiconductor and its 3D stacked device for flash memory applications 김언기	view file

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